中国的军用芯片和光刻机处于世界什么水平？( 二 ) _经验知识

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我国的中芯国际。由于采用了荷兰ASML的光刻机。是不能代工国内自主可控芯片、军用芯片的。这也是中芯国际购买荷兰ASML光刻机的保留条款。那么我国的军用芯片和光刻机处于什么水平呢？
【中国的军用芯片和光刻机处于世界什么水平？】

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军用芯片的特殊性
我国每年的芯片进口额高达2000亿美元。然而核心的军用芯片基本自给自足。并没有使用含有“美国技术”的光刻机生产。大部分军用芯片仍然采用了65nm、90nm 。甚至130nm以下的工艺。
军用芯片对性能要求不高。对稳定性、可靠性以及各种复杂地磁环境下的抗干扰能力。拿工作温度来说。商用CPU约为0~70度。而军用CPU则为-55~125度。航天用的芯片工作温度范围更大。制造工艺上。商用的手机处理器、电脑CPU采用了14nm、7nm制程工艺。而美国的很多军用芯片依旧采用了65nm制程工艺。先进的制程工艺抗电磁干扰的性能会变差。
因此。国内自主设计的CPU、GPU等芯片。虽然在民用市场上缺乏竞争力。然而在军用芯片上广泛使用。比如我国的北斗卫星大量采用了龙芯处理器。

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我国的光刻机
我国生产光刻机的企业是上海微电子。成立与2002年。主要集中于低端光刻机市场。我国光刻机技术起步晚。同时遭到了西方国家的技术封锁。因此。目前造出来的光刻机主要集中于90nm及其以下的芯片工艺制造。根据最新的消息。上海电子已经突破了28nm制程工艺。将会推动国产光刻机向前迈进一大步。
世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。可以生产5nm制程工艺的芯片。上海微电子量产90nm制程工艺光刻机。技术上相差85nm 。而时间上可能有15年以上的差距。