一旦成功实现28nm光刻机组织下线 ， 国内就可以打造完全自主化的芯片生产线 。目前14nm和28nm的芯片可以满足国内90%的需求 。并且中芯国际已经宣布突破了7nm芯片的工艺 ， 有望在6月份实现量产 。
最主要的是 ， 中芯国际的7nm芯片工艺也是通过DUV光刻机实现的 。而此时上海微电子又宣布成功突破了28nm的光刻机 ， 并且在不久之后交付一台给中芯国际 ， 这无疑是国产芯片打了一个漂亮的翻身仗 。
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就在网友为此欢呼的时候 ， 我国科学家吴汉民院士却泼了网友一头冷水 ， 他表示最高端的EUV光刻机一台得1亿多美元 ， 需要英美日德等多个国家的高端技术协作才能生产出来 。
里面大概有10万多零部件 ， 全世界超过5000家供应商 ， 荷兰的ASML也是属于组装的高端光刻机 。中国要独力制造EUV光刻机的话 ， 不太现实 ， 也需要参与到全球化当中 。
吴院士的话意思很明显 ， 主要有两个点 。第一层就是说虽然中国制造出了DUV光刻机 ， 但这离最顶尖的光刻机还有差距 ， 而且这些技术被欧美等发达国家垄断掌握 ， 我们还需要进步 。那么荷兰ASML的EUV光刻机 ， 有什么厉害之处呢？
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EUV光刻技术的研发最早源于1996年 ， 被国际半导体技术发展路线图确定为下一代的首先光刻技术 。之后 ， 美国、欧洲和日韩纷纷参与角逐 。
其中美国参与EUV光刻技术的研究机构超过50家 ， 欧洲下的血本最大 ， 超过35个国家、110个研发机构参与到该技术研究 。日韩也是举国之力来参与其中 。
经过20多年的激烈竞争 ， 最终胜出的是美国 ， 掌握了绝大部分的技术专利 。这也是EUV光刻机出口需要美国点头的原因 ， 而美国禁止ASML出口EUV光刻机给中国 。
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所以吴院士说ASML是一个高端设备的组装公司 ， 它通过参与系统集成进入到EUV光刻机产业链 ， 它集结了美国的光源技术、德国的光学系统、英国的真空技术和日本的材料 。
从现在芯片生产的工艺来说 ， DUV光刻机通过多层套刻工艺 ， 只能生产到7纳米工艺的芯片 。而EUV光刻机才能实现更高端的5纳米工艺芯片 ， 甚至是2纳米工艺芯片的生产 。
经过数十年的发展 ， 集成电路越来越复杂 ， 元器件越来越微小 ， 所以对光刻机的精密程度要求也越来越高 。简而言之 ， 谁掌握了光刻机最先进的技术 ， 谁就在芯片产业拥有话语权 。所以美国通过光刻机技术卡住了我国芯片的脖子 。
吴院士的第二层意思是说中国独立制造EUV光刻机很困难 ， 而且也没有必要 ， 也需要参与到全球化当中 。听到这里 ， 可能很多网友会气愤了 ， 外国都能制造 ， 我国为什么不可以？现在人家正在卡我们脖子 。
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其实网友们都有一个误区 ， 这个外国可不是一个国家 。我们中国人再怎么努力和争气也不可能和整个世界对抗吧？这是在给自己找气受 ， 也是在为难我国的科研人员 。而且美国也没有办法独立完成EUV光刻机的制造 ， 它只是掌握了部分核心技术 。
吴院士的意思也很明确 ， 我们中国需要尖端光刻机 ， 但是没有必要闭门造车 。我们可以掌握核心技术 ， 然后参与到全球化当中去 。
荷兰的ASML公司有5000家供应商 ， 这5000家供应商也可以成为中国企业的供应商 ， 美国再厉害也不可能限制这5000家企业 。
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