LaF3:透明带为220nm~2μm ， 550nm处折射率为1.59 。可以用钨舟蒸发 。
LiF:分子量25.94 ， 密度2.64，熔点870℃，沸点1680℃，10-2Pa 空下蒸发温度1180℃ 。可以用镍、钼、钽、钨的舟加热蒸发 ， 也可以用Al2O3的坩埚加热蒸发，电子束加热蒸发效果更好 。LiF在紫外区具有高透明度 。其在550纳米处的折射率为1.36 ~ 1.37 。LiF薄膜的折射率随时间而变化，并且随着薄膜厚度的增加而变得不均匀 。LiF膜的机械性能差，并且是吸湿性的 。
MgF2:最常用的氟化物，在基材加热到250℃以上后变硬，耐磨性好 。透明带为210nm~10μm，折射率为1.38 。非常适合做单层增透膜，也可以和其他材料一起作为低折射率材料镀制多层滤光片 。镀好的MgF2可以用钽舟或电子枪蒸发 ， 稍微熔化后就会蒸发，蒸发时偶尔会飞溅 。原因是部分物质(特别是表面或靠近外围与外界接触的部分)被氧化成MgO，MgO的熔点高于MgF2，MgF2蒸发时会喷出MgO 。解决办法是保持坩埚清洁，不要在高温下充氧气或空气体 。MgF2材料的纯度要高，颗粒不能太小 。如果涂层后材料边缘有白雾，应将其刮掉 。
Na3AlF6(冰晶石):与Na5Al3F14相似 ， 折射率约为1.35，透明带从200 nm到14微米，可用钽舟蒸发 。它通常与硫化锌一起用于制作各种过滤器 。一是因为两者的折射率相差很大，所以在设计上可以减少膜层的数量；一个是拉应力 ， 一个是压应力，镀后的滤网应力很小 。唯一需要注意的是两者的防潮性都比较差，电镀后需要用胶水密封 。
NdF3:这种材料蒸发平稳，只有少量的出气和飞溅 。NdF3膜有很强的吸水带，在10μm m附近的吸收高于其他氟化物，NdF3膜是一种软膜，摩擦试验后发生破裂，所以这种材料不适合红外镀膜 。
PbF2:是一种高折射率的氟化物材料，分子量245.2，密度8.24，熔点855℃，沸点1290℃，在10-2Pa 空下蒸发温度850℃ 。可以用Al2O3坩埚、钨、铂、钼舟、电子束或激光加热蒸发 。2.05(550nm ， 衬底温度200℃)；1.7(1μm).PbF2薄膜可以表现出不同厚度的压应力和拉应力 。这种物质有毒，可溶于硝酸 。氟化铅薄膜是红外光学薄膜的低折射率材料，但也可用作紫外和可见光谱区的高折射率材料 。与其他氟化物相比 ， 它具有较宽的光谱透射范围和较高的堆积密度，因此是一种非常有用的材料 。
【氟化物介绍 氟化钙密度】ThF4:透明带为200nm~15μm，通过钽舟或电子束蒸发，性能良好，折射率为1.51 。该薄膜具有优异的性能，适用于紫外到红外波段的匹配薄膜 。可惜Th是放射性元素 ， 现在已经很少用了 。
ZrF4:这种膜材料用电子束预热只需要2分钟左右，有一点出气现象 。这种材料是升华的，以2 nm/s的速率蒸发时有少许的出气和喷溅现象，当ZrF4薄膜的沉积厚度达到2000nm时，其沉积速率可以一直保持恒定 。锗衬底上的ZrF4薄膜呈颗粒状 。还有一些溅水点 。它的微观结构相当粗糙 。ZrF4薄膜对ZnS、Ge和玻璃衬底有很好的附着力 。该膜无色、透明且无应力 。对厚度为1940nm的ZrF4薄膜的测量表明，其在400nm处的透射率损失约为1%，这表明氟 。当暴露于环境大气中时，在其膜组成中具有比标准化学计量损失小的损失的ZrF4膜没有机械敏感性 。它在10 μ m的透射率
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