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光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等 ， 是制造芯片的核心装备 。它采用类似照片冲印的技术 ， 把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上 。光刻机的种类可分为：接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光 。
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【光刻机是干什么用的 光刻机是谁发明的】光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段 ， 将光束透射过画着线路图的掩模 ， 经物镜补偿各种光学误差 ， 将线路图成比例缩小后映射到硅片上 。然后使用化学方法显影 ， 得到刻在硅片上的电路图 。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序 。光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础 ， 因此 ， 世界上只有少数厂家掌握 。
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