90nm光刻机能做什么样的手机？ _经验知识

【90nm光刻机能做什么样的手机？】您提起的上海那家公司是上海微电子装备有限公司。截止现在（2020/06/13）这家公司最先进的光刻机确实是90纳米的水平。但是不管是苹果和安卓。都没有经过90纳米的过程。第一代和第二代iPhone的CPU是ARM11 。使用的是130纳米的工艺。第三代的iPhone3GS已经用上65纳米的工艺。到了iPhone4时已经用上45纳米工艺的自研A4处理器。

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高通进入手机芯片制造稍微晚一些。是从65纳米开始的。从第二代S2系列以后才用上45纳米工艺。第一代小米手机M1用的是高通骁龙第三代S3系列的MSM8260处理器。
芯片制造主要看光刻机精度和工艺。按照现在的工艺。用90纳米光刻机经过两次曝光。可以获得45纳米的芯片。三次曝光可以最高达到22纳米的水平。三次曝光良品率过低。一般都控制在28纳米或者32纳米。也就是相当于苹果iPhone5/5S的A6/A7处理器水平。或者华为畅享6/7系列、小米红米4系列。

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综上所述。利用现代工艺。在使用90纳米光刻机的情况下。我们可以做出90纳米、45纳米、28纳米的手机芯片。这几种芯片完全涵盖智能手机的范围。不会回到大哥大时代！
另外。上海微电子已经完成28纳米光刻机的突破。将于明年（2021年）正式交付使用！28纳米国产光刻机经过多次曝光工艺可以生产28纳米、14纳米、10纳米芯片。极限状态下。不考虑成本和良品率的情况下。也可以生产7纳米芯片。

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90纳米制程工艺的芯片到底有多大。能做什么样的手机？
想想。台积电在大概在2004年。2005年的时候它的90纳米制程工艺技术才完全成熟起来。其实上述这个标题表述不准确。不是90纳米的光刻机。应该说90纳米制程工艺。纳米就是比头发丝还小的概念。90纳米并不是说的芯片整体外观大小。而说的是在芯片上光刻布置的元器件的间距。在芯片上光刻元器件。电路就跟拿着图纸在地基上建设许多房子与基础设施一样。建成后形成一个强大的整体处理功能区。这就是芯片。

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其实90纳米制程工艺的芯片整体外观大小与现在7纳米。14纳米制程工艺芯片整体外观差不多一样的。只是芯片上面布置的元器件多少的问题。比如90纳米制程工艺芯片上可以光刻上10亿个元器件。那么7纳米制程工艺的芯片就可能布置上50亿个元器件。很简单的问题。那么肯定的是7纳米制程工艺的芯片功能要强大的多。因为7纳米制程工艺的芯片上元器件要多得多。设计更完善。更合理。功能越强大。

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那么有90纳米制程工艺技术的光核机能做啥样的手机？不要小看90纳米制程工艺的芯片在大概2004年时候才成熟。那时候用90纳米制程工艺做的芯片在很多大牌手机上用过。80后的大哥肯定用过这样的手机。比如德州仪器的90纳米制程工艺的OMAP 1710CPU 。那时候这个处理器就搭载在诺基亚一系列型号手机上。像N90 。N80 。E70 。E60 。主要诺基亚的N系列与E系列产品上。用过诺基亚手机都知道手机本身整体也不大。因此90纳米制程工艺与7纳米制程工艺做出来的芯片并不是说外观上有大小的关系。主要是功能上大小的关系。

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其他观点：
估计不会只做2G手机和大哥大！我虽外行不懂技术。可以想象一。1纳米是比一根头发小20000倍90纳米有多大？可能功能上不如7/9纳米。现在的手机某些功能对多数人没多大用或者根本用不上。因为竞争状态下厂家以功能争销量！所以说断供芯片不是手机一下回到2G或大哥大年代！压力变动力相信中国人定能解决这个难题！唯有如此！屈服只会换来更大的耻辱！