芯片制作原理视频下载
4月23日消息 , 英特尔周一正式发布IvyBridge处理器 。IvyBridge是英特尔的首款22纳米制程处理器 , 并引入了“三栅极”3D晶体管技术 。虽然很多人见过处理器 , 但不一定知道芯片的制造工艺 。简单来说 , 处理器的制造过程大致可以分为很多步骤 , 如砂原料(应时)、硅锭、晶圆、光刻(光刻)、刻蚀、离子注入、金属沉积、金属层、互连、晶圆测试与切割、核心封装、等级测试、封装上市等 , 每一步都包含更详细的流程 。这个视频展示了从沙子到芯片的全过程 。
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芯片制造过程图解
芯片制造工艺:光刻、刻蚀、薄膜(化学气相沉积或物理气相沉积)、掺杂(热扩散或离子注入)、化学机械平坦化CMP 。以单晶硅片(或III-V族 , 如砷化镓)为底层 , 然后利用光刻、掺杂、CMP等技术制作MOSFET或BJT等元器件 , 再利用薄膜和CMP技术制作导线 , 从而完成芯片制造 。出于产品性能要求和成本考虑 , 线材可分为铝工艺(主要是溅射)和铜工艺(主要是电镀 , 见镶嵌) 。主要技术可分为以下几类:黄色光刻、蚀刻、扩散、薄膜、平面化和金属化 。该扩展数据芯片体积小、重量轻、引线和焊点少、寿命长、可靠性高、性能好 , 同时成本低 , 便于大批量生产 。它不仅广泛应用于工业和民用电子设备 , 如录音机、电视机和计算机 , 而且还广泛应用于军事、通讯和遥控领域 。电子设备用芯片组装时 , 组装密度可以比晶体管提高几十到几千倍 , 设备的稳定工作时间也可以大大提高 。来源:百度百科-IC参考资料来源:百度百科-芯片
芯片是怎么做成的
芯片内部制造流程:芯片制造的整个流程包括芯片设计、芯片制造、封装制造、测试等 。芯片制造过程特别复杂 。一、芯片设计 , 根据设计要求 , 生成“图案”1 。晶圆材料硅片的成分是硅 , 是从石英砂中提炼出来的 。硅片经硅元素(99.999%)提纯后制成硅棒 , 成为应时制造集成电路的半导体材料 。是芯片制造所需的特定晶片 。晶圆越薄 , 生产成本越低 , 但工艺要求越高 。2.晶圆涂层晶圆涂层可以抗氧化和耐高温 , 它的材料是光刻胶 。3.晶片的光刻显影和刻蚀首先在晶片(或衬底)表面涂一层光刻胶 , 晾干 。干燥的晶片被转移到掩模对准器 。光线通过掩膜版将掩膜版上的图案投射到晶圆表面的光刻胶上 , 从而实现曝光和化学发光反应 。曝光后的晶圆经过两次烘烤 , 也就是所谓的后曝光烘烤 , 烘烤后的光化学反应更加充分 。最后 , 将显影剂喷洒在晶片表面的光致抗蚀剂上 , 以形成曝光图案 。显影后 , 掩模上的图案保留在光致抗蚀剂上 。糊化、烘烤和显影都在均质显影剂中完成 , 曝光在平版印刷机中完成 。通常 , 均化器和掩模对准器是在线操作的 , 并且通过机械手在每个单元和机器之间传送晶片 。整个曝光显影系统是封闭的 , 晶圆不直接暴露在周围环境中 , 减少环境中有害成分对光刻胶和光化学反应的影响 。4.添加杂质通过将离子注入晶片形成相应的P和N半导体 。具体工艺是从硅片上曝光的区域开始 , 放入化学离子混合物中 。这个过程会改变掺杂区的导电模式 , 使得每个晶体管都可以导通、关断或携带数据 。简单的芯片只能用一层 , 复杂的芯片通常有很多层 。此时不断重复这个过程 , 打开窗口就可以连接不同的层 。这类似于多层pcb的制造原理 。更复杂的芯片可能需要多层二氧化硅层 。此时 , 通过重复光刻和上述过程以形成三维结构来实现 。5.在上述处理之后 , 在晶片上形成晶格颗粒 。用针法测试每个药柱的电性能 。一般来说 , 每个芯片都有大量的晶粒 , 组织一个引脚测试图案是一个非常复杂的过程 , 需要尽可能批量生产相同规格型号的芯片 。数量越大 , 相对成本越低 , 这也是主流芯片设备成本低的一个因素 。6.封装同一个芯片内核可以有不同的封装形式 。原因是芯片是固定的 , 引脚是扎的 , 根据需要做不同的封装形式 。例如:迪普、QFP、PLCC、QFN等 。这主要取决于用户的应用习惯、应用环境、市场形态等外部因素 。6.经过上述工艺的测试和封装 , 芯片生产已经完成 。这一步是测试芯片 , 剔除不良品 , 封装 。扩展信息:芯片组是一组集成电路“芯片” , 它们一起工作 , 并作为产品出售 。它负责连接计算机的核心微处理器和机器的其他部分 。是决定主板级别的重要部件 。以前的芯片组由多个芯片组成 , 现在逐渐简化为两个芯片 。在计算机领域 , 芯片组通常是指计算机主板或扩展卡上的芯片 。在讨论基于英特尔奔腾处理器的个人电脑时 , 芯片组这个词通常指的是两种主要的主板芯片组:北桥和南桥 。制造商可以并且通常是独立于主板的 。例如 , PC主板芯片组包括英伟达的NFORCE芯片组和威盛电子的KT880芯片组 , 这些芯片组是为AMD处理器或许多英特尔芯片组开发的 。单芯片芯片组已经推出很多年了 , 比如sis730 。
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芯片是怎么制造的?
芯片是如何制成的
3360刻蚀:选择性去除部分材料 , 在芯片上形成各层电路图案 。离子:产生离子的原子或分子
化学杂质的来源 。掩模:在芯片制造过程中使用的掩模就像是模板 。在紫外光照射下 , 掩模会在微处理器的每一层制出各种各样的电路图案 。金属:诸如铝和铜 , 用于微处理器中传导电流 。此外 , 还使用了贵金属来连接实际芯片及其封装 。光蚀刻法:使用紫外光和模板或掩模以照相工艺转移图像 , 把芯片的电路图案复制到晶圆表面的方法 。光刻胶:当暴露在紫外光下时可溶解的一种物质 , 用于在芯片制造过程中帮助形成电路图案 。多晶硅:充当芯片上互连层的可导电物质 。二氧化硅:在芯片制造过程中在晶圆上产生 , 充当绝缘层 。硅锭:由纯净硅制成的大型圆柱术状晶体 。这个圆柱体被切割成薄片用于制造计算机芯片 。晶圆:英特尔使用从硅锭下切下来的纯净晶圆制造微处理器 。硅是海滩上砂子的主要成分 , 同时也是半导体 。半导体是指即能变成 。
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如何制作芯片【台积电芯片生产视频 芯片是如何制造视频,芯片是怎么制造的视频】
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