电子束蒸发镀膜原理 。本发明涉及一种利用电子束蒸发镀膜技术制备纳米金属复合镀层的 ***。本发明采用高能离子束作为加热源，通过电子束辐照使镀层发生化学反应，从而实现纳米金属复合镀层的制备 。本发明工艺简单，成本低，易于推广 。本发明的镀层具有良好的耐蚀性、耐磨性、耐热性、、耐高温性、耐腐蚀性、导电性、导电性能好等优点，适用于各种电子元器件的生产 。本发明还公开了一种制备纳米金属复合镀层的 ***。
文章插图
一、蒸发镀膜原理？1.通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜 。这种 *** 最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一 。
2.蒸发镀膜与其他真空镀膜 *** 相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜 。为沉积高纯单晶膜层，可采用分子束外延 ***。
二、镀膜机的原理和系统？镀膜机是一种将涂层材料沉积在基底材料上的设备 。其原理是利用真空技术，在真空室中加热并蒸发涂层材料，使其形成高温蒸气，然后在基底材料表面沉积成膜 。镀膜机的系统包括真空系统、加热系统、控制系统和沉积系统 。
真空系统：真空系统是镀膜机的核心部分，其作用是将真空室内的气体抽出，使得室内真空度达到一定的要求 。真空系统主要包括机械泵、分子泵、扩散泵、阀门、真空计等组成 。
加热系统：加热系统是镀膜机的重要组成部分，其作用是提供外部加热源，加热涂层材料，使其蒸发成高温蒸气 。加热系统主要包括电阻丝加热器、电子枪加热器、电磁加热器等 。
控制系统：控制系统是镀膜机的重要组成部分，其作用是对镀膜机进行控制和监测 。控制系统主要包括温度控制器、真空度控制器、电流控制器、PLC控制器等 。
沉积系统：沉积系统是镀膜机的重要组成部分，其作用是控制涂层材料的沉积速度和均匀性 。沉积系统主要包括转台、夹具、喷枪等 。
三、比较说明常见蒸发镀膜 *** 的原理,特点？通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜 。这种 *** 最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一 。
2、蒸发镀膜与其他真空镀膜 *** 相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜 。为沉积高纯单晶膜层，可采用分子束外延 ***。
四、电子束蒸发与磁控溅射的区别？优质答案1：
有以下的区别：原理不同：电子束蒸发是利用高能电子束轰击靶材，使材料表面产生很高的温度，由固态直接升华到气态，沉积到工件表面所形成的薄膜 。磁控溅射是利用高能离子轰击靶材，使靶材表面原子飞逸出来的过程称溅射，那么采用磁场控制后，溅射出来的原子或二次电子以轮摆线的形式被束缚在靶材表面，使得辉光维持而进行溅射，主要运用在装饰方面 。
膜的粘附性及结合的效果不同：电子束镀膜的粘附性较差，但是膜的均匀性好 。溅射的镀膜溅射能量大，和基底的粘附性也好，但是膜会有颗粒也就是均匀性稍差 。
膜厚严格控制不同：对于高反压功率管来说，它的工作电压高，电流大，没有一定厚度的金属膜会造成单位面积Al膜上电流密度过高，易烧毁 。对于一般的半导体器件，Al层偏薄，则膜的连续性较差，呈岛状或网状结构，引起压焊引线困难，造成不易压焊或压焊不牢，从而影响成品率 。Al层过厚，引起光刻时图形看不清，造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和"连条"现象 。采用电子束蒸发，行星机构在沉积薄膜时均匀转动，各个基片在沉积Al膜时的几率均等；行星机构的聚焦点在坩埚蒸发源处，各个基片在一定真空度下沉积速率几乎相等 。采用磁控溅射镀膜 *** ，由于沉积电流和靶电压可以控制，也即是溅射功率可以调节并控制，因此膜厚的可控性和重复性较好，并且可在非常大表面上获得厚度均匀的膜层 。
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