发力NIL技术，佳能想给中国提供光刻机，还是媲美EUV的那种
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【发力NIL技术，佳能想给中国提供光刻机，还是媲美EUV的那种】
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众所周知 ， 目前芯片的制造流程中 ， 光刻机是必不可少的设备 ， 且从成本来看 ， 光刻机占所有半导体设备成本的20-25% 。
但是大家也清楚 ， 当前在光刻机领域 ， ASML是一家独大 ， 特别是EUV光刻机 ， 只有ASML能够生产 ， 而在尖端一点的DUV光刻上面 ， 也是ASML占优 ， 佳能、尼康等品牌 ， 主要占的是低档市场 。
如上图所示 ， 这是机构统计的2021年前道光刻机出货量情况 ， 大家可以看到高档的EUV光刻机 ， ASML完全垄断 ， 低档尼康、佳能有一定的份额 。
而中国大量需要光刻机 ， 特别是EUV光刻机 ， 这就造成了市场与需求的不匹配 ， 但ASML也没办法啊 。
所以其它厂商有一个非常大的机会 ， 那就是搞定EUV光刻机 ， 然后卖给中国 ， 那会是巨大的市场 。
不过 ， 要掌握EUV光刻机技术 ， 可不容易 ， 因为ASML造EUV光刻机 ， 是整合了全球的技术 ， 美国的光源、德国的镜片、英国的真空腔 ， 可以说是举全球之力完成的 。
虽然尼康、佳能、上海微电子都有光刻机 ， 但要搞定EUV光刻机 ， 估计是没太多办法的 ， ASML攒局的能力太强了 ， 已经将利益链捆绑在一起了 。
为此 ， 这要怎么办呢？当然就要换道超车了 ， 比如佳能 ， 知道在EUV上是不可能打败ASML的 ， 所以一直押注纳米压印光刻（NIL）技术 。
所谓NIL技术 ， 是将三维结构的掩膜压在晶圆的感光材料上 ， 同时照射光线完成一次性转印 ， 被称为是最有前景的光刻技术之一 。
目前在NIL的专利上 ， 佳能一支独秀 ， 远超其它任何厂商 ， 并且佳能的NIL光刻机不仅仅是停留在纸面上 ， 而是已经有有生产出来了 ， 在2021年就有了成品 ， 并且被铠侠应用于NAND闪存的生产 。
佳能近日表示 ， 接下来会研发新一代的NIL光刻机 ， 新一代的NIL光刻机 ， 有可能应用于28nm甚至14nm及以下的工艺 。
值得大家注意的是 ， 目前NIL技术 ， 基本上都是日系厂商掌握 ， 并不需要依赖美国、欧洲等的产业链 ， 也就是说NIL光刻机 ， 日本一旦生产出来 ， 可以不听美国的 ， 不受美国的长臂管辖 ， 也意味着佳能一定生产出来 ， 是可以卖给中国的 。
当然现在的问题是 ， 能够媲美EUV光刻机的NIL光刻机 ， 究竟会在什么时候面市 ， 如果佳能能够实现这个技术 ， 全球的半导体格局都有可能生变 。
一旦媲美EUV光刻机的NIL光刻机面市 ， 以ASML为中心 ， 以为美国意志为体现的的先进工艺制程 ， 可能就再也不听美国的了 ， 会迎来蓬勃发展 ， 可能全球都在盼望着佳能的大动作 ， 特别是中国 。
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