投稿|产能为王，半导体设备投资报告发布( 三 )
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先进制程EUV光刻机销量占比最低，但价格昂贵 。2020年全球光刻机销售额达到151亿美元，其中EUV销售额为53.5亿美元，占比排名第一 。随着制程的不断下探，其占比会不断提高 。
目前，ASML几乎垄断了整个EUV市场，在高端光刻机领域具有绝对领先优势 。
国内光刻机已经实现了从0到1——上海微电子的90nm DUV光刻机已通过验收，45nm、28nm光刻机等在研发过程中 。
光刻机技术极为复杂，主要涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，生产一台光刻机往往涉及到上千家供应商，因此国产光刻机的核心零部件需和上游厂商共同完成 。
目前国内光刻机的投资机会，更多在于核心组件，如双工件台、光源系统、曝光系统、浸没系统、物镜系统、光栅系统，以及配套设施，比如光刻胶、光刻气体、掩膜板、缺陷检测、涂胶显影等 。
涂胶显影设备
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涂胶显影设备是光刻工艺中的设备，包括涂胶机、喷胶机和显影机等，作用于光刻的输入和输出环节，具体包括在曝光前涂胶机进行光刻胶涂覆，以及在曝光后显影机进行显影 。这些均由涂胶显影设备与光刻机联机作业 。
全球前道涂胶显影设备市场规模2020年为19.05亿美元 。涂胶显影设备在前道和后道工艺中均有应用，前道占据95%以上 。
目前全球市场主要被东京电子垄断，国内，芯源微产品已在上海华力、长江存储、中芯绍兴、上海积塔等多个客户处有验证和导入 。
刻蚀机
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最后一个主设备是刻蚀机 。刻蚀是半导体电路布局中的重要步骤，它一般用光刻胶的图形作为掩膜，在衬底上去除一定深度的薄膜物质，完成图案从光刻胶到晶圆上的转移 。
刻蚀可分为干法和湿法 。干法刻蚀在整体市场占比最高，达到90%左右，可分为反应离子刻蚀（CCP、ICP）和反应原子刻蚀；湿刻只占了10% 。
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全球刻蚀设备市场行业集中度很高 。根据Gartner数据，2020年全球干法刻蚀设备市场主要被泛林半导体、东京电子、应用材料三家海外巨头所占据，合计90.24% 。 国内厂商处于追赶阶段，全球市场占有率较低，仍有较大的发展空间 。
随着工艺制程的不断迭代，刻蚀的步骤不断增加，刻蚀的价值量处在不断提升的过程中 。
去胶设备
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光刻、刻蚀完成后，还需要在不损坏底层材料和结构的情况下清除各类光刻胶，这需要去胶设备 。
去胶设备市场相对较小，2020年全球市场规模为5.38亿美元 。这个领域我国已完成绝大部分国产替代，屹唐的干法去胶设备更是世界一流，全球市占率超过30% 。在国内则占据90%的市场 。
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