原子层沉积设备ALD设备指的是原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD）设备，是一种用于制备薄膜材料的高级化学气相沉积技术装置 。
ALD设备是设计适用于科学研究、企业研发和大规模自动化生产的灵活、可靠的原子层沉积ALD工艺平台 。ALD设备非常适合从研发阶段的薄膜沉积扩大到大规模的工业化生产 。区别于普通CVD或PECVD原理，ALD可沉积超薄的、高深宽比的膜层 。
作为一种高度可精准控制的材料制备方法，原子层沉积（ALD）技术目前已成为半导体芯片、柔性显示、太阳能电池及锂电池等领域中最热门的薄膜材料沉积技术 。
以下主要讨论原子层沉积原理和化学 ， 原子层沉积与其他相关技术的比较，原子层沉积设备，原子层沉积的应用和原子层沉积技术的发展 。
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