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投稿|中国首台光刻机交付，2022，国产芯片还能更差吗？( 二 )


中芯国际目前是以28nm、14nm制程芯片为主要营收支柱，制程大于28nm的中低端芯片，只是中芯国际营收中很少的一部分 。换言之，国产光刻胶尚不足以应对28nm制程和更先进的芯片，甚至不符合中芯国际对中低端芯片的制造要求 。
这话或者已经间接表明，国内芯片前道生产目前面临的困难，不仅没有对应的光刻机，还缺少可以实现国产替代的光刻胶 。不过好消息是，泰晶科技目前已经在全自动晶圆调频及测选机近日又取得新突破 。
该设备主要用于光刻晶片的频率自动调整，这一设备的研制成功，不仅填补了行业空白，而且保证了关键性技术的保密性，逐步为光刻机国产替代奠定基础 。
虽然在芯片前道制造中，DUV\EUV光刻机可谓是一步一个坎儿，但在前道工艺设备中同样处于重要地位的蚀刻机设备，已经为光刻机发展蹚出一条“血路” 。
蚀刻机在封锁中成为单项第一在前道晶圆制造中，所用到的专用设备主要包括氧化/扩散设备、光刻设备、刻蚀设备、清洗设备、离子注入设备、薄膜沉积设备、化学机械抛光设备 。其中刻蚀和光刻、薄膜沉积，并称为半导体制造三大核心工艺 。
“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射 。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀 。
“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形 。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀，形成半导体器件及其电路 。
至2015年，中微公司不断精进产品工艺，蚀刻机工艺，一直与世界先进水平保持同步，并且凭借良好的营销策略，逼着美国取消蚀刻机销售限制，因为当时以美国技术主导的蚀刻机产品，市场份额已经受到明显吞噬 。
三年后的2018年，根据IHS Market统计，中微公司更是一举打破维易科和爱思强，在MOCVD设备的垄断地位，占全球新增氮化镓基LED-MOCVD市场份额的41%，下半年全球占比更是超过60%，单一产品占有量全球第一 。
时间来到2021年，中微公司蚀刻机制程提升至5nm，并成功研制3nm蚀刻机，2022年1 月22日，中微公司披露2021年业绩预告，预计营收同比增加36.73%，达到31.08亿元，新签订单41.3亿元，同比增加90.5%，约增加19.6亿元 。体现在利润上，中微公司归母净利润约为9.5亿元至10.3亿元，同比增幅约为93.01%至109.26% 。
除中微公司外，北方华创也是国内主要蚀刻机生产厂家 。但根据亚化咨询统计数据，截至2020年12月16日，长江存储累计招标348台刻蚀设备，其中美国厂商Lam Research中标187台，占总采购数量的比例为54% 。
国内厂商中微公司、北方华创、屹唐股份分别中标50台、18台、13台，国产化率达到23.85%；华虹六厂累计招标81台刻蚀设备，其中LamResearch中标45台，占总采购数量的比例为56%，中微公司中标15台，为华虹六厂刻蚀设备第二大设备供应商，占总采购数量的比例为19% 。
从全局来看，蚀刻机国产替代率依旧有巨大提升空间，芯片设备国产替代之路依旧任重道远 。
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